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이용수
Abstract
서론
본론
결론
참고문헌
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O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
유도 결합형 플라즈마를 이용한 감광제 제거 반응로의 설계
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
유도 결합형 플라즈마를 이용한 감광제 제거 반응로의 설계 ( Design of Inductively Coupled Plasma Ashing Chamber )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 ( A Study on Photoresist Stripping Using High Density Oxygen Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
저압 유도결합 플라즈마(ICP)의 연구동향
전기의세계
1994 .03
축방향 자기장의 주기적 단속을 이용한 유도결합형 플라즈마 식각장비의 고품위 플라즈마 형성
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
축방향 자기장의 주기적 단속을 이용한 유도결합형 플라즈마 식각장비의 고품위 플라즈마 형성 ( The Generation of Uniform High Density Plasma of Inductively Coupled Plasma Etcher Enhanced by Alternating Axial Magnetic Field )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
실험계획법을 이용한 감광제 건식제거 공정의 최적화
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
유도 결합 플라즈마 기술
인포메이션 디스플레이
2017 .01
유도결합 플라즈마에서 두 안테나의 구조에 따른 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2007 .11
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
생체 실험용 극저주파 자기장 발생 장치의 설계
한국전자파학회논문지
2003 .08
Fabrication of 100㎛ thick mold and electroplating using thick photoresist
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .07
자기장을 이용한 전류센서 개발
대한전기학회 학술대회 논문집
2017 .10
자기장 내성평가용 유도코일의 자기장 균일도 계산
전자파기술
1994 .12
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