고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 ( A Study on Photoresist Stripping Using High Density Oxygen Plasma )

정형섭; 이종근; 박세근

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저자정보: 정형섭 이종근 박세근

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 제20권 2호

발행연도: 1997.11

수록면: 533 - 536 (4page)

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고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구

정형섭 , 이종근 , 박세근 대한전자공학회 학술대회 1997.11 학술대회자료

고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 ( A Study on Photoresist Stripping Using High Density Oxygen Plasma )

정형섭 , 이종근 , 박세근 대한전자공학회 학술대회 1997.11 학술대회자료

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