플라즈마 산화막을 이용한 이중 금속 배선 공정 ( Double-layer Metal Process using Plasma-Oxide )

김흥식 ,  오상식 ,  이진효 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1982 .01

통합 배선 시스템

이철규

전기의세계

1994 .10

배선 기술 동향

김기범 ,  차국헌 ,  김재정 외 1명

전자공학회지

2001 .08

다층 배선 공정기술 및 향후 동향연구

이대우 ,  모승기 ,  윤용선 외 1명

[ETRI] 전자통신동향분석

1991 .09

두께 변화에 따른 Gate Oxide의 전기적 특성

박정구 ,  홍능표 ,  이용우 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .07

플라즈마 식각공정에서 발생하는 실리콘 게이트 전극의 Notching 현상

이원규

공업화학

2009 .01

고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성

김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

단결정 실리콘의 이방성 습식식각

조남인 ,  김민철 ,  강찬민

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2003 .01

시이퀀스 제어회로에서 최적배선공법의 적용에 관한 연구

안경문 ,  김희식

정보 및 제어 논문집

2015 .10

연산회로 최적화를 위한 배선의 재배열

엄준형 ,  김태환

한국정보과학회 학술발표논문집

2002 .04

광모듈 및 배선용 유기소재 공정 기술

권나영 ,  김대근 ,  이택승

고분자 과학과 기술

2010 .02

고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구

함동은 ,  신수범 ,  안진호

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

VLSI 레이아웃 병렬배선을 위한 하드웨어 가속기 아키텍쳐 설계

정용기 ,  이기희 ,  김영우 외 3명

한국정보과학회 학술발표논문집

1991 .04

실리카 식각공정 기술동향

박상호 ,  성희경 ,  최태구

[ETRI] 전자통신동향분석

1999 .02

성능지향 FPGA 배선방법에 관한 연구

임종석

정보과학회논문지(A)

1998 .06

플라즈마를 이용한 GaAs 반응성 이온 식각

이성현 ,  노호섭 ,  최경훈 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

NLD Plasma 식각 공정을 이용한 $LiNbO_3$ 광 도파로의 식각 Profile의 특성

박우정 ,  양우석 ,  이승태 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

Ti-Ploycide 게이트에서 게이트산화막의 전연파괴특성

고종우 ,  고종우 ,  고종우 외 3명

한국재료학회지

1993 .01