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플라즈마 공정에서의 열 관리
KOSCO SYMPOSIUM 논문집
2015 .05
Metal 배선 식각 공정에 의한 Gate Oxide 특성 열화에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
산화막/금속 구조에서 후속열처리에 의한 산화막의 손상
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
테이퍼진 단일-이중 금속 표면 플라즈몬 집광 소자 연구
한국통신학회 기타 간행물
2009 .12
PECVD산화막을 이용한 삼층금속배선공정에 관한 연구 ( The Study on the Triple-Level metallization process Using PECVD Oxide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .07
금속 알루미늄 산화막 생성을 위한 고속 양극산화 공정 개발
대한기계학회 춘추학술대회
2013 .03
디지털 합금방법으로 성장한 AlxGa₁-xA층의 균일한 산화
한국통신학회 기타 간행물
2004 .11
새로운 플라즈마 식각 방법에 의한 금속배선 재료인 구리의 패턴 형성에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
반도체 금속배선공정을 위한 저유전율 고분자 재료
고분자 과학과 기술
2003 .02
플라즈마 식각 공정이 N2O 산화막과 순수한 산화막을 갖는 MOS 소자 특성에 미치는 영향에 관한 연구 ( A Study on the Effect of Plasma Etching Process on the Characteristics of MOS Devices with N2O and Pure Gate Oxides )
전자공학회논문지-A
1996 .09
플라즈마 공정용 컨버터의 제어
한국조명·전기설비학회 학술대회논문집
2016 .11
이온빔과 플라즈마를 이용한 고분자 및 금속 표면처리
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2008 .03
플라즈마/화염을 이용한 부분산화연구
KOSCO SYMPOSIUM 논문집
2005 .01
플라즈마 전해산화에 의한 고순도 알루미늄박에 산화피막 형성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2014 .05
Improvement of source-drain contact properties of organic thin-film transistors by metal oxide and molybdenum double layer
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2008 .01
Metal Plasma-Etching Damages of NMOSFETs with Pure and N₂O Gate Oxides
한국정보통신학회논문지
1999 .06
통합 배선 시스템
전기의세계
1994 .10
배선 기술 동향
전자공학회지
2001 .08
다층 배선 공정기술 및 향후 동향연구
[ETRI] 전자통신동향분석
1991 .09
Al-Cu 금속 배선 부식 개선을 위한 공정조건 최적화에 관한 연구
한국정보통신학회논문지
2012 .11
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