MOCVD of TiN form TEMAT and NH3

최정환 ,  이재갑

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Cycle-CVD법으로 증착된 TiN 박막의 ALD 증착기구와 특성에 관한 연구

민재식 ,  손영웅 ,  강원구 외 1명

한국재료학회지

1998 .01

적외선 CVD 방법을 이용한 산화막 성장에 NH3가 미치는 영향 ( Effects of NH3 on the Growth of Oxide Film by Infrared-CVD Method )

이철승 ,  정관수 ,  김철주

전자공학회논문지

1988 .11

TiN 상에서의 CVD텅스텐막의 성장

김의송 ,  이종무 ,  이종길

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

고밀도 플라즈마 CVD 방법에 의한 TiN barrier metal 형성과 특성

최치규 ,  강민성 ,  오경숙 외 6명

한국재료학회지

1999 .01

Cu 배선공정에서 CVD-TiN 박막의 확산방지막 특성

정득석 ,  박기철 ,  송병창 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

PECVD에 의한 TiN 코팅의 마모특성 연구 ( Wear Characteristics of TiN Coating by Plasma Enhanced CVD )

송건 ,  안효석

Tribology and Lubricants

1990 .04

Cu 배선 공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산 방지막의 성능 향상

김경호 ,  김기범

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

TiN 기판상에서의 CVD텅스텐의 핵생성에 관한 연구

김의송 ,  이종무 ,  이종길

한국재료학회지

1992 .01

TiN에 대한 W의 부착특성에 관한 연구(II)

이종무 ,  권난영 ,  이종길

한국재료학회지

1993 .01

TiN 에 대한 W의 부착특성에 관한 연구(l)

이종무 ,  권난영 ,  손재현 외 1명

한국재료학회지

1993 .01

지하수 조사에서 환경추적자로서의 $SF_6$의 적용

고동찬 ,  김용제

한국지하수토양환경학회 학술발표회

2003 .01

Tin Oxide Films Deposited by Ozone Assisted Thermal CVD

J. W. Bae ,  G. Y. Yeom ,  S. W. Lee 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Formation of TiN Films by Metal Organic Chemical Vapor Deposition using TDEAT ( Ti [ N ( C2H5 ) 2 ] 4 ) , TDMAT ( Ti [ N ( CH3 ) 2 ] 4 ) and TEMAT ( Ti [ N ( CH3 ) ( C2H5 ) ] 4 )

김재호 ,  이재갑 ,  신현국 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Plasma cleaning of CVD graphene by CH₄/Ar

Jia Lee ,  Qu Deshun ,  Chang-Ho Ra 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

NH3 분위기에서 Ti 질화에 의한 TiN 형성

전형탁 ,  박수진 ,  이근우 외 4명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Ti/TiN/Ti buffer layer/TiN 구조를 갖는 TiN 박막의 충격마모특성에 관한 연구

김광석 ,  김범석 ,  이상율

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .11