지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
MeV 이온주입에 의한 $P^{+}$ Buried Layer 형성시 발생하는 결함에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
A Study on the Defects in the Fabrication of CMOS Retrograde Well Including A Buried Layer Using MeV Ion Implantation
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
MeV 이온주입에 의해 형성된 Retrograde Triple well에서 발생하는 결함들의 상호작용
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
MeV $B^+$ 이온주입에 의한 Self-Gettering 효과
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Diffusion / Ion Implantation
대한전자공학회 단기강좌
1982 .01
저 에너지 이온 주입의 개선을 위한 변형된 감속모드 이온 주입의 안정화 특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
1 MeV argon 이온주입에의해 유기된 결함 및 회복기구의 XTEM 분석 ( XTEM Study of 1 MeV Ion Implantation Induced Defects in Si and Their Annealing Behavior )
전자공학회논문지-A
1993 .08
1MeV 인 이온 주입시 RTA에 의한 미세결함 특성과 latch-up 면역에 관한 구조 연구
전기전자학회논문지
1998 .08
Study on Microdefect Characteristics Analysis by RTA in 1MeV P Ion Implantation for High Memory Devices
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
MeV 이온주입된 실리콘의 열처리시 불순물과 이차결함간의 상호작용
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
낮은 에너지의 As₂^(+) 이온 주입을 이용한 얕은 n^(+)-p 접합을 가진 70nm NMOSFET의 제작 ( 70nm NMOSFET Fabrication with Ultra-shallow n+-p Junctions Using Low Energy As₂^(+) Implantations )
전자공학회논문지-SD
2001 .02
MeV 이온빔 분석 기술
고분자 과학과 기술
2003 .02
실리콘에 MeV로 이온주입된 As 와 Sb의 profile과 열처리에의한 이온의 거동에 관한 연구 ( A Study of Profiles and annealing behavior of As and Sb by MeV implantation in silicon )
전자공학회논문지-D
1998 .03
이온주입 공정을 이용한 4H-SiC p-n Diode에 관한 시뮬레이션 연구
전기전자재료학회논문지
2009 .01
A Study on Development of Advanced Environmental-Resistant Materials Using Metal Ion Processing
Journal of Mechanical Science and Technology
2006 .10
실리콘에 붕소의 고에너지 이온주입에 의한 농도분포에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2002 .01
이온주입 제어에 의한 재료특성 개선에 관한 연구
Journal of Advanced Marine Engineering and Technology (JAMET)
2008 .11
Various surface modifications of polymer by ion implantation
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2006 .04
이온주입에 의한 Al5202의 표면특성에 관한 연구
한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집
2006 .06
1 MeV 고에너지로 붕소 ( Boron ) 와 인 ( Phosphorus ) 을 이온주입 시 급속 열처리에 따른 도핑 프로파일 ( A Study on Boron and Phosphorus Doping Profile by RTA using 1MeV High Energy Ion Implantation )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
0