Optimum Photomask Design for Maximum Fidelity and Process Margin with a Monte-Carlo Method

Jai Cheol Lee ,  Yong Ho Oh ,  Sung Woo Lim

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )

오용호 ,  임성우 ,  이재철

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계

오용호 ,  이재철 ,  임성우

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )

이재철 ,  오용호 ,  임성우

전자공학회논문지-D

1997 .12

Process Technology for Next Generation Photomask

Jong Min Sohn ,  Sung Woon Choi ,  Byung Gook Kim 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

자체 검사를 이용한 포토마스크 결점 추출

최지희 ,  정홍

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Challenges for Next Generation Photomask

Hi ,  oaki Mo ,  imoto 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong ,  Dave Ma ,  kle

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Optical Lithography at Low K Factors

Ha ,  y Sewell

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Electron Beam Lithography Simulation for the 1 Giga-Bit DRAM Photomask Manufacturing

Yoo Hyon Kim ,  Byung Cheol Cha ,  Hoong Joo Lee 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Improved performance of multi tone masks by advanced compensation methods

Ekbe ,  g ,  Pete 외 2명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

High-Resolution and Low-Cost Ag Photomask Fabrication by Using Laser Direct Patterning Method

Jin-Ho Youn ,  Bong-Chul Kang ,  Jung-Hwang Pa 외 2명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

Laser Process Proximity Correction for Improvement of Critical Dimension Linearity on a Photomask

Jong Rak Pa ,  k ,  Hyun Su Kim 외 5명

[ETRI] ETRI Journal

2005 .04

ADVANCED LITHOGRAPHY

Tsuneo Te ,  asawa

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Fabrication of controlled micro-pattern by droplet-based microfluidic photomasks

김주현 ,  정웅찬 ,  최재훈 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

Lithography 기술과 Trend에 대한 고찰

조한구

전자공학회지

2001 .08

Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동

김동규 ,  이홍로

한국표면공학회지

1995 .04

포토마스크 생산공정 FAB의 진동제어 설계 및 시공기술

강정호 ,  하동준 ,  조광수 외 2명

대한건축학회 학술발표대회 논문집 - 구조계

2006 .10

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10

A Study on Rapid Fabrication of Fine Electrode Pattern using Line Beam Laser and Ag Photomask

Jung Hwan Pa ,  k ,  Jin Ho Youn 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2013 .05