A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing

함영목 ,  이원규 ,  김수환 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Giga bit 급 DRAM 의 개발 동향

양원석 ,  황정모

전자공학회지

1997 .06

Giga Bit 급 저전력 Synchronous DRAM 구조에 대한 연구 ( A Study on the Low Power Architecture of Multi - giga bit Synchronous DRAM`S )

유회준 ,  이정우

전자공학회논문지-C

1997 .11

Process Technology for Next Generation Photomask

Jong Min Sohn ,  Sung Woon Choi ,  Byung Gook Kim 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Current Status and Future of Electron Beam Lithography

백기호 ,  김영식

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Challenges for Next Generation Photomask

Hi ,  oaki Mo ,  imoto 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity and Process Margin in Optical Lithography

Yong Ho Oh ,  Sung Woo Lim ,  Jai Cheol Lee

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10

256K Bit 시대의 전망

한국전자산업진흥회

전자진흥

1985 .01

자체 검사를 이용한 포토마스크 결점 추출

최지희 ,  정홍

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Several systems for 1Giga bit Modem

Jin-Sung Pa ,  k ,  Seong-Ho Kang 외 4명

제어로봇시스템학회 국제학술대회 논문집

2003 .10

APPLICATION OF CVD-Ti/TiN BARRIER METAL FOR GIGA-BIT DRAM DEVICES

Kim ,  Jeong-Tae ,  Chae 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

DRAM 특집을 내면서

진대제

전기의세계

1989 .04

W Polymetal Gate Technology for Giga Bit DRAM

Jong Wan Jung ,  Sang Beom Han ,  Kyungho Lee

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2001 .03

E-beam Lithography ( Equipment )

박선우

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Giga-Bit급 DRAM을 위한 고유전 ( Ba , Sr ) TiO3 박막 커패시티의 유전완화 특성에 대한 회로 모델 ( A Circuit Model of the Dielectric Relaxation of the High Dielectric ( Ba , Sr ) TiO3 Thin Film Capacitor for Giga-Bit Scale DRAMs )

장병탁 ,  차선용 ,  이희철

전자공학회논문지-SD

2000 .04

New Approach of Monte Carlo Simulation for Low Energy Electron Beam Lithography

Soo Hwan Kim ,  Young Mog Ham ,  Won Gyu Lee 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Electron-Beam Lithography를 사용한 Sub-0.1㎛ T-Gate 제작에 관한 연구 ( Sub-0.1㎛ T-Gate Fabrication for Monolithic Microwave Integrated Circuits by Electron-Beam Lithography )

이수용 ,  신두식 ,  오재응 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1993 .01

나노사출성형용 스탬퍼 제작을 위한 Electron beam lithography 패터닝 연구

엄상진 ,  서영호 ,  유영은 외 3명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2005 .10