Process Technology for Next Generation Photomask

Jong Min Sohn ,  Sung Woon Choi ,  Byung Gook Kim 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Challenges for Next Generation Photomask

Hi ,  oaki Mo ,  imoto 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

자체 검사를 이용한 포토마스크 결점 추출

최지희 ,  정홍

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Improved performance of multi tone masks by advanced compensation methods

Ekbe ,  g ,  Pete 외 2명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

High-Resolution and Low-Cost Ag Photomask Fabrication by Using Laser Direct Patterning Method

Jin-Ho Youn ,  Bong-Chul Kang ,  Jung-Hwang Pa 외 2명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

A Study on Rapid Fabrication of Fine Electrode Pattern using Line Beam Laser and Ag Photomask

Jung Hwan Pa ,  k ,  Jin Ho Youn 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2013 .05

몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정 ( Optical Proximity Correction of Photomask with a Monte-Carlo Method )

이재철 ,  오용호 ,  임성우

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정

이재철 ,  오용호 ,  임성우

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Z-correction, a new method to improve TFT mask set overlay for TFT production yield enhancement

Ekbe ,  g ,  Pete 외 9명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2005 .01

A New Approach of E-Beam Proximity Effect Correction for High-Resolution Applications

Michal Simecek ,  Anja Rosenbusch ,  Tsuneaki Ohta 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Fabrication of controlled micro-pattern by droplet-based microfluidic photomasks

김주현 ,  정웅찬 ,  최재훈 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity and Process Margin in Optical Lithography

Yong Ho Oh ,  Sung Woo Lim ,  Jai Cheol Lee

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Optimum Photomask Design for Maximum Fidelity and Process Margin with a Monte-Carlo Method

Jai Cheol Lee ,  Yong Ho Oh ,  Sung Woo Lim

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

High-Speed Convolution System for Real-Time Proximity Effect Correction

Susumu Oogi ,  Takiji Ishimu ,  a 외 13명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동

김동규 ,  이홍로

한국표면공학회지

1995 .04

High Precision Dose Correction for Proximity Correction in Electron Beam lithography on a Sub O.2mm Device

양현조 ,  최용규 ,  허훈 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

포토마스크 생산공정 FAB의 진동제어 설계 및 시공기술

강정호 ,  하동준 ,  조광수 외 2명

대한건축학회 학술발표대회 논문집 - 구조계

2006 .10

Correction

Jin Kyu Choi ,  Yong Woo Kim ,  Joo Hwan Koh 외 2명

Macromolecular Research

2008 .06

포토마스크 공정의 Plasma Etching 시 발생하는 Alumina Particle 개선

정유석 ,  박환욱 ,  정준화 외 4명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2014 .05

전자빔 리소그래피에서의 근접효과 보정을 이용한 패턴 제작에 관한 연구

오세규 ,  김동환 ,  김승재

반도체및디스플레이장비학회지

2009 .01