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Zr 원소 첨가에 따른 $TiSi_2$ 응집화 현상의 억제
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
TiSi2 박막의 Agglomration 거동에 미치는 Si기판 의존성
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
C49 $TiSi_2$상의 에피구조 및 상안정성
한국재료학회지
1994 .01
PVD 방법에 의한 $TiN/TiSi_2$-bilayer 형성
한국재료학회지
1998 .01
TiN capping layer을 이용한 Titanium silicide 형성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2012 .06
Si (001) 기판에서 $N_2$처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-$TiSi_2$상의 열적 거동과 결정학적 특성에 관한 연구
한국재료학회지
2001 .01
초청정 Si기판에 동시 증착된 $TiSi_2$ 의 상전이 및 형성
한국재료학회지
1994 .01
RTA 방법에 의하여 제작한 TiN / TiSi 2 의 특성 분석 ( The Characteristics of TiN / TiSi2 Bilayer on Si by RTA in N2 Ambient )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
Composite target으로 증착된 Ti-silicide의 형성에 관한 연구(I)
한국재료학회지
1991 .01
RAPID THERMAL ANNEAL에 의한 TiN / TiSi₂구조 형성에 관한 연구(Ⅰ)
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
Rapid Thermal Anneal 에 의한 TiN / TiSi2 구조 형성에 관한 연구 ( Ⅰ ) ( Characterization of TiN / TiSi2 Structure Formation by a Rapid Thermal Anneal ( Ⅰ ) )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
2단계 급속열처리에 의한 TiN/TiSi₂ 이중구조막의 특성
전기학회논문지
1992 .12
Effect of HF and In-Situ RF Cleaning on the Growth of TiSi2
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Characterization of TiN/TiSi2 System by Two Step Rapid Thermal Anneal
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1992 .01
Characterization of TiN / TiSi2 Structure Formation by a Rapid Thermal Anneal
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
Characteristics of TiN/TiSi₂ Contact Barrier Layer by Rapid Thermal Anneal in N₂ Ambient
전기학회논문지
1992 .06
TiSi2 박막의 응집기구와 sub-half micron Ti-polycide 배선의 전기저항
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
A Study on the Properties of TiN/TiSi₂ Bilayer by a Rapid Thermal Anneal in NH₃ Ambient
전기학회논문지
1992 .08
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