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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 1990.7
- 수록면
- 279 - 284 (6page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (6)
1991
TaSi2 형성시 단결정 실리콘 기판에 이온주입된BF2의 거동 ( The Behavior of BF2 Implanted Single Crystalline Si Substrates During the Formation of TaSi2 )
조현춘
,
양희준
,
최진석
외 1명
전자공학회논문지-A
1991.10
학술저널
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성 ( Characteristics of TaSi2 Formed on the Si Wafer Implanted Dopant Ions )
조현춘
,
최진석
,
김동원
외 1명
전자공학회논문지-A
1991.04
학술저널
단결정 실리콘 기판에 이온주입된 불순물이 $TaSi_2$형성에 미치는 영향
조현춘
,
최진석
,
고철기
외 1명
한국재료학회지
1991.01
학술저널
1990
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성.
조현춘
,
최진석
,
김동원
외 1명
대한전자공학회 학술대회
1990.11
학술대회자료
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성 ( Characteristics of TaSi2 Formed on the Si Wafer Implanted Dopant Ions )
조현춘
,
최진석
,
김동원
외 1명
대한전자공학회 학술대회
1990.11
학술대회자료
Composite target으로 sputter시켜 형성된 TaSi2의 특성 ( The properties of TaSi2 formed by Stuttering from the composite target )
조현춘
,
양희준
,
최진석
외 1명
대한전자공학회 학술대회
1990.07
학술대회자료
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1988 .01
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단결정 실리콘 기판에 이온주입된 불순물이 $TaSi_2$형성에 미치는 영향
한국재료학회지
1991 .01
-
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성 ( Characteristics of TaSi2 Formed on the Si Wafer Implanted Dopant Ions )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
-
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성 ( Characteristics of TaSi2 Formed on the Si Wafer Implanted Dopant Ions )
전자공학회논문지-A
1991 .04
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TaSi2 형성시 단결정 실리콘 기판에 이온주입된BF2의 거동 ( The Behavior of BF2 Implanted Single Crystalline Si Substrates During the Formation of TaSi2 )
전자공학회논문지-A
1991 .10
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Dopant가 주입된 poly-Si 기판에서 Ta-silicides의 형성 및 dopant 의 거동에 관한 연구
한국재료학회지
1991 .01
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$MoSi_2$/W 복합재료의 합성과 성질에 관한 연구
한국재료학회지
1998 .01
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휴대용 유도탄 체계의 모델링과 성능분석을 위한 실시간 병렬처리 시뮬레이터
한국컴퓨터정보학회논문지
2006 .09
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The properties of nanocomposite Ti-Al-V-N coating synthesized by magnetron sputtering process with single composite target
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2019 .05
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Study on the Discharge Properties of Facing Targets Sputtering System with Target to Target Distance and Preparation of ITO Thin Films with Targets Distance
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
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Development of a Training Device for Stuttering Treatment
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2006 .07
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PZT Sputtering Target 제작
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
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The properties of nanocomposite Al-Ti-X-N (X=Cu, Si) coating synthesized by magnetron sputtering process with single composite target
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .11
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Al-xSi-2Cu-1Mg/ySiC(x:6, 12, 18. $y:0{\sim}10wt.%$)계 복합재료의 열적성질에 관한 연구
한국주조공학회지 (주조)
1993 .01
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Composite Target으로 증착된 Ti-Silicide의 형성 ( The Formation of Ti-Silicide Deposited With Composite Target )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
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Composite Target으로 중착된 Mo-Silicide의 형성 및 이에 따른 불순물의 거동 ( Behavior of the Implanted Dopants and Formation of Molybdenum Silicide by Composite Sputtering )
대한전자공학회 학술대회
1992 .01
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복합재료 자동차 부품의 설계및 제조방법
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1994 .04
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Cu배선을 위한 Ta-Si-N Barrier에 관한 연구
한국재료학회지
1997 .01
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Structure and Properties of Indium Tin Oxide Thin Films Sputtered from Different Target Densities
한국표면공학회지
2005 .10
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