SiO₂/HfO₂/Al₂O₃ 구조의 터널링 절연막을 가지는 차세대 비휘발성 메모리의 급속 열처리 효과

오세만 ,  김관수 ,  박군호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2009 .07

엔지니어드 ZrO₂/SiO₂의 터널 베리어와 HfO₂의 트랩 레이어를 가지는 메모리의 전기적 특성

유희욱 ,  박군호 ,  조원주

대한전자공학회 학술대회

2009 .07

차세대 비휘발성 메모리에 사용되는 High-k 절연막의 터널링 특성

오세만 ,  정명호 ,  박군호 외 4명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

Al₂O₃-HfO₂-Al₂O₃와 SiO₂-HfO₂-SiO₂ 샌드위치 구조 MIM 캐패시터의 DC, AC Stress에 따른 특성 분석

곽호영 ,  이희덕 ,  권혁민 외 6명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

플래쉬 메모리 응용을 위한 Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ 복합막 구조의 전기적 특성 분석

이영복 ,  문평 ,  임준영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2014 .06

엔지니어드 ZrO/SiO₂의 터널 베리어와 HfO₂의 트랩 레이어를 가지는 메모리의 전기적 특성

유희욱 ,  박군호 ,  조원주

대한전자공학회 학술대회

2009 .07

SiO₂/Si₃N₄ 터널 절연막의 적층구조에 따른 비휘발성 메모리 소자의 특성 고찰

조원주

전기전자재료학회논문지

2009 .01

비휘발성 메모리 응용을 위한 ALD법을 이용한 HfO₂ 절연막의 특성

정순원 ,  구경완

전기학회논문지

2010 .08

Non-saturated Atomic Layer Deposition for Composition Adjustment in $Al_2O_3-HfO_2$ Thin Films

정회성 ,  김지헤 ,  강상원

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

New HFO-Based Option(HFO기반의 다양한 냉매 옵션)

윤린

설비저널

2011 .04

Gate 산화막으로 $HfO_2$ 박막을 이용하여 제작한 NFET 특성 고찰

박재후 ,  조문주 ,  박홍배 외 4명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2003 .01

ALD법으로 성장한 HfO 박막의 열처리에 따른 특성변화

이재웅 ,  함문호 ,  맹완주 외 2명

한국재료학회지

2007 .01

Effects of Composition on the Memory Characteristics of (HfO2)x(Al2O3)1-x Based Charge Trap Nonvolatile Memory

Zhenjie Tang ,  Ma Dongwei ,  Zhang Jing 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2014 .01

습식식각을 이용한 HfO₂ 박막의 식각특성

양정열 ,  황택성 ,  곽노석 외 2명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

$Fe/HfO_2/Co$ 3층 접합구조에서의 구조 및 터널링 현상에 대한 연구

조영목 ,  주웅길 ,  최서윤 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

HfO₂ 박막 특성에 대한 주성분 분석을 이용한 신경망 모델링

고영돈 ,  이정환 ,  함문호 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

급속 열처리에 의한 SiO2의 질화 ( Rapid Thermal Nitridation of SiO2 )

이용현 ,  왕진석

전자공학회논문지

1990 .05

Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구

윤태식 ,  권장연 ,  이동훈 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01