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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 토의
Ⅳ. 결론
References
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고주파 플라즈마 응용 Ionized Source Beam Epitaxy 의한 Gan의 Epi 성장 ( Epitaxial Growth of GaN on Si ( 100 ) / Sapphire ( 0001 ) Using RF Plasma Assisted Ionized Source Beam Epitaxy )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1994 .01
The Growth of GaN Depending on Initial Layers of Sapphire Substrate by Hot Wall Epitaxy
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
고주파 플리즈마 응용 lonized Source Beam Epitaxy에 의한 GaN의 Epi 성장 ( Epitaxial Growth of GaN on Si ( 100 ) / Sapphire ( 0001 ) Using RF Plasma Assisted Beam Epitaxy )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
이온화된 N-source를 사용한 GaN박막의 성장과 특성
한국재료학회지
1998 .01
Crystal Growth and Properties of GaN Layers on Sapphire Substrate
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Characteristics of Be doped GaN growth using single GaN precursor
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
Hydride Vapor Phase Epitaxy를 이용한 Sapphire기판 상에 GaN후막의 성장특성에 관한 연구
한국재료학회지
1997 .01
Self-Separation 방법을 적용한 고품질 Free-Standing GaN
전기전자재료학회논문지
2016 .01
암모니아를 이용하여 분자선에피탁시 방법으로 AIN/Si 기판에 성장시킨 GaN의 구조적,광학적 특성
한국재료학회지
2002 .01
HF 크리닝 처리한 코발트실리사이드 버퍼층 위에 PA-MBE로 성장시킨 GaN의 에피택시
한국산학기술학회 논문지
2010 .02
금속 갈륨과 암모니아의 직접반응에 의한 GaN 후막성장과 특성 연구
한국재료학회지
2000 .01
GaN 박막의 활용을 위한 Metal/GaN 접촉과 GaN MESFET의 전기적 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
AlN과 저온 GaN 완충층을 이용한 Si 기판상의 후막 GaN 성장에 관한 연구
한국재료학회지
1999 .01
GaN 분말의 승화에 의한 Bulk GaN 성장
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Characterization of GaN / AIN and GaN / GaN Two-Step Growth by MBE
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
ZnO 기판 위에 Hydride Vapor-Phase Epitaxy법에 의한 GaN의 성장
한국재료학회지
2002 .01
Mg-Doped GaN/Sapphire 구조로 제작된 압전 박막 SAW 필터의 특성분석
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
GaN 성장을 위한 기판의 Ion Implantation 전처리에 관한 연구
한국재료학회지
2004 .01
Growth and Characterization of InGaN/GaN MQWs on Two Different Types of Substrate
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2006 .06
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