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플라즈마 질화산화막을 적용한 CMOSFET의 질소 농도에 따른 저주파 잡음 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
2010 .06
Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석
전기전자재료학회논문지
2007 .01
질소 주입에 따른 게이트 산화막의 특성에 미치는 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
Characteristics of 0.1μm nMOSFETs with Different Channel Doping and Gate Oxide Thickness
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1996 .01
Metal Plasma-Etching Damages of NMOSFETs with Pure and N₂O Gate Oxides
한국정보통신학회논문지
1999 .06
기체상 질소산화물을 포함한 2012~2014년도 대한민국 질소수지 연구
지하수토양환경
2017 .01
Electrical Characterization of the Wet-Grown Ultra-Thin Gate Oxide and its Application to CMOSFETs
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
A NOVEL TECHNIQUE OF N2O-TREATMENT ON NH3-NITRIDED OXIDE FOR FABRICATING GATE OXIDE IN NMOSFET`S
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
Dual-Gate Surface Channel 0.1㎛ CMOSFETs
Journal of Electrical Engineering and information Science
1998 .04
두께 변화에 따른 Gate Oxide의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
NITROGEN REMOVAL FROM SEWAGE WITH HIGH NITROGEN CONTENTS
Environmental Engineering Research
1999 .06
NO기반 게이트절연막 NMOS의 AC Hot Carrier 특성
전기전자재료학회논문지
2004 .01
시멘트 산업의 질소산화물 배출과 저감 기술
한국에너지기후변화학회 학술대회
2019 .05
Dual-Gate Surface Channel 0.1㎛ CMOSFETs
Journal of Electrical Engineering and Information Science
1998 .04
Leclercia Adecarboxylata를 이용한 합성폐수의 암모니아성질소 제거특성 및 질소거동
대한환경공학회지
2007 .04
Performance Enhancement of 0.1nm nMOSFETs by Adjusting Channel Doping and Gate Oxide Thickness
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
The Characteristics of Trap in Silicon Oxide with Nano Scale Structure
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2002 .07
Development of a Nitrogen Application System for Nitrogen Deficiency in Corn
바이오시스템공학(구 한국농업기계학회지)
2017 .01
플라즈마질화에서 발생기 질소와 질화 속도에 관한 연구
열처리공학회지
2010 .01
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