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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김도훈 (부경대학교) 임의상 (부경대학교) 임권택 (부경대학교)
저널정보
한국청정기술학회 청정기술 청정기술 제17권 제4호
발행연도
2011.12
수록면
300 - 305 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

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고농도 이온 주입되어 경화된 포토레지스트(HDI PR)를 효과적으로 제거하기 위해 초임계 이산화탄소와 여러 가지 공용매를 사용하였다. 공용매에 의한 용해 방식으로는 경화된 PR층이 완벽하게 제거되지 않기 때문에 고압셀에 초음파 발생 팁을 부착하여 웨이퍼 표면에 물리적인 힘을 제공함으로서 제거 성능을 높이고 제거시간을 단축할 수 있었다. 또한, HDI PR 제거 반응 후에 초임계 이산화탄소와 서로 섞이지 않는 헬륨 가스를 셀 내부에 주입하여 내용물을 배출함으로서, PR 제거 반응잔여물을 빠른 시간에 제거할 수 있었다. 공용매의 종류 및 농도, 반응 온도, 압력 변화에 따른 HDI PR 제거 특성을 조사하였으며, 웨이퍼 표면의 반응 전 후의 상태 및 성분을 scanning electron microscopy과 energy dispersive X-ray spectrometer를 이용하여 분석하였다.

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험 결과 및 고찰
4. 결론
감사
참고문헌

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