SYNTHESIS AND PROPERTIES OF NOVOLAK RESIN

이석규 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .04

O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구

김한형 ,  양승국 ,  이종근 외 4명

대한전자공학회 학술대회

2009 .07

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

NOVOLAK BASED POSITIVE X-RAY RESIST WITH CHEMICAL AMPLIFICATION

이해원 ,  이석규 ,  박병선

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .04

Diazide 계 고해상력 감광성 고분자 ( 제1보 ) Naphthoquinonediazide - Novolak Ester 의 감광특성에 미치는 노볼락 수지와 감광기 농도의 영향

심정섭 ,  김동유 ,  전문석 외 1명

폴리머

1988 .08

Novolak 계열과 Epoxy 계열의 고분자를 이용한 새로운 multi layer 패턴 형성 방법

김한형 ,  양승국 ,  유한석 외 5명

대한전자공학회 학술대회

2006 .06

Fabrication of multilayer patterns using adaptive two-step photolithography

G. Lee ,  J. H. Han ,  S. Pa 외 1명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

2010 .06

Fabrication of Multilevel layers for Optical Printed Circuit Board by Modified Two-step Photolithography

Han-Hyoung Kim ,  Seung-Kook Yang ,  Sang-Hyun Sin 외 11명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

2008 .06

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes

김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구

장현기 ,  김용권

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

m - , p - 크레졸 / 포름알데히드 노볼락 수지의 합성과 물성에 관한 연구

이석규 ,  이해원

폴리머

1992 .11

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Effects of Fluorine for Photoresist Properties

김진백 ,  김영우 ,  권영길 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .10

Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-phase Plasma

Tatsuo Ishijima ,  Kouhei Nosaka ,  Yousuke Goto 외 5명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Chemically Amplified photoresists for 248 nm based on derivated phenolic resins

전현표 ,  김기대 ,  박주현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구 ( A Study on Thin Relief Phase Holographic Grating Using Photoresist )

신광용 ,  최도형 ,  김남 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구

신광용 ,  최도형 ,  김남 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07

Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist

Kim ,  Kwang-Hyun ,  Song 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01