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이용수
Abstract
Introduction
Etching characteristics
Alignment Target
Conclusion
Reference
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단결정 실리콘의 이방성 식각특성
대한전자공학회 학술대회
1997 .06
단결정 실리콘의 이방성 식각특성 ( Anisotropic Etching Property of Silicon-Crystal Silicon )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
실리콘의 비등방성 식각을 이용한 집적 센서용 미세 기계 구조의 제작 ( Fabrication of Micromechanic Structures for Integrated Sensor Using Anisotropic Etching of Si )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
이방성 식각용액인 TMAH에 의한 Si 습식 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
실리콘의 비등방성 식각 상태의 고찰과 집적 센서용 미세 기계 구조 제작에의 응용
전기학회논문지
1990 .01
MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화
전기전자재료학회논문지
2012 .01
무전해 니켈 도금과 실리콘의 이방성 식각을 이용한 미세 가동 구조물의 제작 방법에 관한 연구
전기학회논문지 C
2000 .06
The Optimum Condition of Anisotropic Bulk (110) Si Etching with KOH for High Selectivity and Low Surface Roughness
Journal of Electrical Engineering and Information Science
1997 .10
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
반도체 공정에 적합한 실리콘 이방성 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
반도체 공정에 적합한 실리콘 이방성 식각에 관한 연구 ( A Study on Anisotropic Etching of Silicon Suitable for IC Process )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
단결정 실리콘의 이방성 습식식각
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2003 .01
수용성 암모니아계를 이용한 실리콘 이방성 식각 ( Anisotropic Etching of Silicon with Aqueous Ammonia )
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )
전자공학회논문지
1989 .11
Large-area {110} micromirror based on anisotropic wet etch
대한전기학회 학술대회 논문집
2015 .11
박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .11
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