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학술저널
저자정보
허재성 (고려대학교 재료공학과) 최훈상 (고려대학교 재료공학과) 김도영 (고려대학교 재료공학과) 장유민 (고려대학교 재료공학과) 이장혁 (고려대학교 재료공학과) 최인훈 (고려대학교 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제2호
발행연도
2003.1
수록면
69 - 73 (5page)

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In this work, $IrO_2$thin films as bottom electrode of ferroelectric capacitors were deposited and characterized. The $IrO_2$films deposited in the conditions of 25, 40 and 50% oxygen ambient by sputtering method were annealed at 600, 700 and $800^{\circ}C$, respectively. It was found that the crystallinity and the surface morphology of $IrO_2$films affected the surface properties and electrical properties of SBT thin films prepared by the MOD method. With increasing temperature, the crystallinity and the roughness of $IrO_2$films were also increasing. This increasing of roughness degraded the surface properties and electrical properties of SBT films. We found an optimum condition of $IrO_2$films as bottom electrode for ferroelectric capacitor at 50% oxygen ambient and $600^{\circ}C$ annealing temperature. Electrical characterizations were performed by using$ IrO_2$bottom electrodes grown at an optimum conditions. The remanent polarization ($P_{r}$) of the Pt/SBT/$IrO_2$/$SiO_2$/Si structure was 2.75 $\mu$C/$\textrm{cm}^2$ at an applied voltage of 3 V. The leakage current density was $1.06${\times}$10^{-3}$ A/$\textrm{cm}^2$ at an applied voltage of 3 V.
#$IrO_2$: SBT #MOD #RF-magnetron sputtering

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