Reactive-Sputtered TiN Diffusion Barriers의 광학적 특성에 관한 연구 ( Optical Properties of TiN Diffusion Barriers Deposited by Reactive Sputtering )

유성룡 ,  안용철 ,  최진석 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

Reliability of Aluminum Film with TiN Barrier Metal

N. S. Kim ,  Y. W. Song ,  H. D. Kim 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01

Reactive Sputtering으로 제조한 TiN 박막의 전기적 특성 ( The Electrical Charateristics of TiN thin Films By Reactive Sputtering )

송태섭 ,  김기완

대한전자공학회 학술대회

1984 .01

Reactive Sputtering 으로 제조한 TiN 박막의 전기적 특성

송태섭 ,  김기완

대한전자공학회 학술대회

1984 .11

Reactive-Sputtered TiN Diffusion Barriers의 광학적 특성에 관한 연구

유성룡 ,  안용철 ,  최진석 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

반응성 스트터링에서 방전특성과 TiN 박막의 물성특성의 상관 관계 연구

朴正后 ,  金光和 ,  河弘周 외 3명

전기학회논문지

1993 .08

Reactive Magnetron Sputter Ion Plating법으로 증착된 TiN 박막의 특성에 관한 연구

이민구 ,  김흥회 ,  김선재 외 2명

한국표면공학회지

2000 .04

The Reliability of Al Film Due to Reactive-Sputtered TiN Barrier Metal

Seong-Yeol Cho ,  Yeong-Seuk Kim ,  Nam-Soo Kim

Journal of Electrical Engineering and Information Science

1996 .12

Ti / TiN 구조 Barrier Metal의 형성과 그 Contact 특성 ( The Formation and Contact Characteristics of Ti / TiN Structure Barrier Metal )

이철진 ,  박종욱 ,  박종호 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

Ti/TiN 구조 Barrier Metal의 형성과 그 Contact특성

이철진 ,  박종욱 ,  박종호 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

Tin Nitride Thin Films Fabricated by Reactive RF Magnetron Sputtering at Various Nitrogen Gas Ratios

Sujin Choi ,  Juyun Patk ,  Jisoo Kang 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

고밀도 플라즈마 CVD 방법에 의한 TiN barrier metal 형성과 특성

최치규 ,  강민성 ,  오경숙 외 6명

한국재료학회지

1999 .01

Effects of Substrate Temperature and Deposition Angle on Crystallinity of Tin-nitride Films Synthesized by Reactive Sputtering

Masataka Kato ,  Taku Ishii ,  Yusuke Ohta 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Mechanical Properties of TiN Films Deposited with Magnetron Sputtering

Min-A Song ,  Ji-Hoon Yang ,  Jae-Hun Jung 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

DC Magnetron Sputtering 법으로 성장된 TiN 박막의 미세구조 특성평가

김경원 ,  이태권 ,  김호정 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2004 .01

Hard Coating 응용을 위한 DC 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 증착한 TiN 박막의 특성에 대한 연구

김영렬 ,  박용섭 ,  최원석 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

박막내 AIN 함량이 $(Ti_{1-x}Al_x)N$ 박막의 미세구조와 미세경도에 미치는 영향

박종관 ,  박주동 ,  오태성

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

반응성 RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 TiN_x 상온 성막에 있어서 기판 상의 펄스상 직류 바이어스 인가 효과

김세기

한국표면공학회지

2019 .12

Effects of sputtering gas on the film structure and mechanical properties for the preparation of CNx films by reactive sputtering

Tomoyasu Shi ,  oya ,  Yukihi 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11