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이정수 (서울과학기술대학교) 이지훈 (서울과학기술대학교) 남승범 (서울과학기술대학교) 조성일 (서울과학기술대학교) 조용수 (서울과학기술대학교) 고민석 (서울과학기술대학교) 이승조 (서울과학기술대학교) 오동교 (서울과학기술대학교) 김정대 (서울과학기술대학교) 이재혁 (서울과학기술대학교) 옥종걸 (서울과학기술대학교)
저널정보
한국기계가공학회 한국기계가공학회지 한국기계가공학회지 제16권 제1호
발행연도
2017.2
수록면
96 - 101 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2017

데스크탑 규모의 롤투롤 나노임프린팅 기반 정밀패턴 가공 스테이션 개발
이정수 ,  이지훈 ,  오동교 외 10명 한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집 2017.04 학술대회자료
데스크탑 규모의 간결한 롤투롤 나노임프린팅 기반 나노패턴 연속가공 시스템 개발
이정수 ,  이지훈 ,  남승범 외 8명 한국기계가공학회지 2017.02 학술저널

초록· 키워드

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We have developed a compact desktop-sized nanopatterning system driven by the Roll-to-Roll (R2R) nanoimprinting (NIL) principle. The system realizes the continuous and high-speed stamping of various nanoscale patterns on a large-area flexible substrate without resorting to ponderous and complicated instruments. We first lay out the process principle based on continuous NIL on a UV-curable resin layer using a flexible nanopatterned mold. We then create conceptual and specific designs for the system by focusing on two key processes, imprinting and UV curing, which are performed in a continuous R2R fashion. We build a system with essential components and optimized modules for imprinting, UV curing, and R2R conveying to enable simple but effective nanopatterning within the desktop volume. Finally, we demonstrate several nanopatterning results such as nanolines and nanodots, which are obtained by operating the built desktop R2R NIL system on transparent and flexible substrates. Our system may be further utilized in the scalable fabrication of diverse flexible nanopatterns for many functional applications in optics, photonics, sensors, and energy harvesters.
#Nanopatterning(나노패터닝) #Nanomanufacturing(나노생산) #Continuous Process(연속공정) #Roll-to-Roll(롤투롤) #Mechanical Machining(기계가공)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 데스크탑 롤투룰 임프린팅 시스템의 설계 및 구축
3. 데스크탑 롤투롤 임프린팅 시스템 운용을 통한 나노패턴 제작
4. 결론
REFERENCES

참고문헌 (15)

참고문헌 신청
Seo, J. H., Park, J. H., Kim, S.-I., Park, B. J., Ma, Z. Choi, J. and Ju, B. K., “Nanopatterning by Laser Interference Lithography: Applications to Optical Devices”, J. Nanosci. Nanotech., Vol. 14, No. 2, pp. 1521-1532, 2014. Ok, J. G., Shin, Y. J., Park, H. J. and L. J. Guo, “A step toward next-generation nanoimprint lithography: extending productivity and applicability”, Appl. Phys. A, Vol. 121, No. 2, pp. 343-356, 2015. Guo, L. J., “Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements”, Adv. Mater., Vol. 19, No. 4, pp. 495-513, 2007. Sreenivasan, S. V., Nanoscale manufacturing enabled by imprint lithography, MRS Bulletin, Vol. 33, No. 9, pp. 854-863, 2008. Ok, J. G., Ahn, S. H., Kwak, M. K. and Guo, L. J., “Continuous and high-throughput nanopatterning methodologies based on mechanical deformation”, J. Mater. Chem. C, Vol. 1, No. 46, pp. 7681-7691, 2013.

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