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논문 기본 정보

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학술대회자료
저자정보
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2008년도 추계학술대회
발행연도
2008.11
수록면
1,917 - 1,921 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2009

극대면적 UV-NIL 장비 개발
최원호 ,  신윤혁 ,  강인구 외 5명 대한기계학회 춘추학술대회 2009.05 학술대회자료

2008

극대면적 UV-NIL 공정에서의 균일 가압 시스템 개발
최원호 ,  신윤혁 ,  여민구 외 6명 대한기계학회 춘추학술대회 2008.11 학술대회자료

초록· 키워드

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Ultraviolet-nanoimprint lithography (UV-NIL) is promising technology for cost effectively defining micro/nano scale structure at room temperature and low pressure. In addition, this technology is fascinating because of it's possibility for high-throughput patterning without complex processes. However, to acquire good micro/nano patterns using this technology, there are some challenges such as uniformity and fidelity of patterns, etc. In this paper, we have focused on uniform contact mechanism and performed contact mechanics analysis. The dimension of the flexible sheet to get adequate uniform contact area has been obtained from contact mechanics simulation. Based on this analysis, we have made a uniform pressurizing device and confirmed its uniform pressurized zone using a pressure sensing paper.
#Nano-Imprinting Lithography(나노 임프린트 리소그라피) #Uniform Pressurizer(균일가압장치) #Active Pressurizing Zone(유효가압면적) #Contact Mechanics(접촉역학)

목차

Abstract
1. 서론
2. 해석대상 모델링
3. 접촉역학 해석 결과
4. 균일 가압장치 가압실험
5. 결론
감사의 글
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