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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2007도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2007.10
수록면
33 - 38 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

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권성진 ,  이영민 ,  임세영 대한기계학회 춘추학술대회 2007.05 학술대회자료

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Nano-Imprint Lithography(NIL) is a patterning technique at nano-size in limelight of requesting to reduce thespace between patterns. NIL is modeled under systematic multiscale consideration for a coarse grained molecular dynamics model. Force fields of a united atom model and a bead-spring model for the resin materials, obtained from fitting with the quantum mechanical solution, are employed for computation. The initial configuration of the polymer resin for UV nano imprinting is obtained from Monte Carlo simulation and the initial relaxation procedure. To simulate NIL process, we employ the Nose-Poincare thermostat for temperature controlled Molecular Dynamics (MD), which exhibits enhanced numerical stability even when the temperature fluctuation is large in the case of small number of particles system. Various aspects of NIL process from the mechanics view are discussed based on the numerical solution from the present multiscale modeling.
#Nano-imprint Lithography(나노임프린트 리소그라피) #Polymer Simulation(폴리머 전산모사) #Molecular Dynamics(분자 동역학)

목차

Abstract
1. 서론
2. Thermal-NIL 해석 이론과 결과
3. UV-NIL 해석 이론과 결과
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