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한국생산제조학회 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 한국공작기계학회 2004 춘계학술대회 논문집
발행연도
2004.4
수록면
472 - 477 (6page)

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Miniaturization is the central theme in modern fabrication technology. Many of the components used in modern products are becoming smaller and smaller. The direct write FIB technology has several advantages over contemporary micromachining technology, including better feature resolution with low lateral scattering and capability of maskless fabrication. Therefore, the application of focused ion beam(FIB) technology in micro fabricaton has beome increasingly popular. In recent model of FIB, however the feeding system has been a very coarse resolution of about a few ㎛. It is not unsuitable to the sputtering and the deposition to make the high-precision structure in micro or macro scale.
Our research is the development of nano stage of 200㎜ strokes and 10㎚ resolutions. Also, this stage should be effectively operating in ultra high vacuum of about 1×10?? pa. This paper presents the concept of nano stages and the discussion of the material treatment for ultra high vacuum.
#Nano Stage #FIB(Focused Ion Beam) #Ultra High Vacuum #material treatment

목차

Abstract
1. 서론
2. FIB 장비 소개
3. 초진공용 나노 스테이지 제작
4. 진공 재료 및 표면 처리 기술
5. 결론
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