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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2006년도 춘계학술대회 논문요약집
발행연도
2006.5
수록면
479 - 480 (2page)

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The purpose of this paper is to investigate the relationship between CMP(Chemical Mechanical Polishing) characteristics of ITO thin film and friction signal by using the CMP monitoring system. Suba 400 pad and MSW2000 slurry of the Rohm & Haas Co. was used in this experiment ... 전체 초록 보기
#CMP(화학기계적 연마) #ITO(Indium-Tin Oxide) #Friciton Force(마찰력) #Monitoring System(모니터링시스템) #LED(Light Emitting Diode)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 본론
3. 결론
후기
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