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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2004.10
수록면
7 - 10 (4page)

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2008

마찰력 모니터링 기반 지능형 CMP 시스템 개발
정해도 한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집 2008.11 학술대회자료

2004

마찰력 측정을 통한 CMP 공정의 모니터링
정해도 ,  박범영 ,  이현섭 외 2명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2004.10 학술대회자료

초록· 키워드

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The CMP monitoring system was newly developed by the aid of friction force measurement, resulting from installation of piezoelectric quartz sensor on R&D polisher. The correlation between friction and CMP results was investigated in terms of tribological aspects by using the monitoring system. Various friction signals were monitored and analyzed by the change of experimental conditions such as pressure, velocity, pad and slurry. First of all, the lubrication regimes were classified with Sommerfeld Number through measuring coefficient of friction in ILD CMP. And then, the removal mechanism of abrasives could be understood through the correlation with removal rate and coefficient of friction. Especially, the amount of material removal per unit sliding distance is directly proportional to the friction force. The uniformity of CMP performances was also deteriorated as coefficient of friction increased.
#chemical mechanical polishing(화학기계연마) #monitoring(모니터링) #tribology(트라이볼로지) #friction force(마찰력) #coefficient of friction(마찰계수) #pad(패드) #slurry(슬러리)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 마찰력 측정 장치 개발
3. 모니터링 결과
4. 결론
참고문헌

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