The properties of (Ti, Al)N coatings deposited by inductively coupled plasma assisted d,c, magnetron sputtering

박흥식 ,  정동하 ,  나형돈 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02

Growth of nitride semiconductors on oxide templates by rf-magnetron sputtering

나현석 ,  정상용 ,  성태연

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Effect of pressure on the chemical composition and structure of carbon nitride film deposited by RF magnetron sputtering

Kimin Roh ,  Byung-Keun Na ,  Si-Kyoung Choi 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

A Review of Inductively Coupled Plasma-Assisted Magnetron Sputter System

Tae Hyung Kim ,  Geun Young Yeom

Applied Science and Convergence Technology

2019 .09

RF magnetron sputtering과 O₂ plasma ashing 공정을 이용한 다공성 구조 박막 제작 및 특성 분석

장성우 ,  황세훈 ,  윤정현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Effect on the CNx molecular behavior in N₂ plasma during deposition of carbon nitride film by RF magnetron sputtering

노기민 ,  최시경 ,  김정형

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Bias effect on the chemical structure and hardness during deposition of carbon nitride film by RF magnetron sputtering

노기민 ,  유신재 ,  김정형 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

박막 형광체 ZnGa₂O₄:Mn²⁺의 RF Magnetron Sputtering법을 이용한 생장

박재홍 ,  이성훈 ,  하성진 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

1998 .07

Effect of post heat-treatment on microstructure and dielectric properties of Ba_0.5Sr_0.5TiO₃ thin films by RF magnetron sputtering

Chil-Hyoung Lee ,  Doo-Jin Choi ,  Young-Jei Oh

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F₈ for inductively coupled plasma based on plasma parameters

J. J. Lee ,  S. J. Kim ,  Y. S. Lee 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

아르곤 / 수소 유도결합 플라즈마를 이용한 RF sputter cleaning 에 관한 연구

이원석 ,  이진호 ,  남욱준 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

Development of transition metal nitride hard coatings through the composition and processing control

Jyh-Wei LEE

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Radio Frequency Inductively Coupled Plasma 를 이용한 High Ionization Sputtering 장치의 제작

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .02

Effect of RF Bias on Plasma Parameters and Electron Energy Distribution in RF Biased Inductively Coupled Plasma

Hyo-Chang Lee ,  Chin-Wook Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Two - dimensional simulation of inductively coupled large - area plasma source

S. E. Pa ,  k ,  J. K. Lee 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Plasma Uniformity Analysis of Inductively Coupled Plasma Assisted Magnetron Sputtering by a 2D Voltage Probe Array

Junghoon Joo

Applied Science and Convergence Technology

2014 .07

Rf magnetron sputtered Co79Cr₂₁ 박막의 자기이방성

백종성 ,  김약연 ,  임우영 외 3명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

1991 .05