전자빔 리토그래피에서 몬테카를로와 현상시뮬레이션을 이용한 3차원 리지스트프로파일 시뮬레이션 ( 3-D Resist Profile Simulation using monte-Carlo & Develop Simulation on E-beam Lithography )

서태원 ,  함영목 ,  전국진 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .11

전자빔 리토그리피에서 몬테카를로와 현상시뮬레이션을 이용한 3차원 리지스트 프로파일 시뮬레이션

서태원 ,  함영목 ,  전국진 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .11

X-선 리소그라피 기술 ( X-ray Lithography Technology )

최영규 ,  양전욱 ,  이재신 외 3명

특정연구 결과 발표회 논문집

1988 .01

X-선 리소그라피 기술 ( X-ray Lithography Technology )

최영규 ,  양전욱 ,  이재신 외 3명

한국통신학회 학술대회논문집

1988 .01

Resist 표면 거칠기 예측을 위한 전자빔 리소그라피 시뮬레이션에 관한 연구

김학 ,  한창호 ,  이기용 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

리소그라피 모의실험을 위한 전자빔용 감광막의 현상 변수 측정과 프로파일 분석 ( Development parameter measurement and profile analysis of electron beam resist for lithography simulation )

함영목 ,  이창범 ,  서태원 외 2명

전자공학회논문지-A

1996 .07

평균적으로 빠른 스트링 매칭

박종근 ,  박근수

(구)정보과학회논문지

1994 .07

밀리미터파용 HEMT 소자 개발 및 제작을 위한 T-게이트 형성 전자빔 리소그래피 공정 모의 실험기 개발

손명식 ,  김성찬 ,  신동훈 외 6명

전자공학회논문지-SD

2004 .05

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10

하이퍼텍스트에서 스트링 매칭 알고리즘

박근수 ,  김동규

한국정보과학회 학술발표논문집

1994 .10

고출력 태양광 모듈을 위한 분할 셀 종류에 따른 슁글드 스트링 특성 시뮬레이션

박지수 ,  오원제 ,  이재형

전기전자재료학회논문지

2020 .01

문서 편집을 위한 모음 중심 스트링 탐색 방법

정광식 ,  유헌창 ,  황종선

한국정보과학회 학술발표논문집

1993 .04

스트링 정합 방법에 기반한 온라인 자소 인식

권오성 ,  권영빈

(구)정보과학회논문지

1994 .05

E-beam Lithography ( Equipment )

박선우

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing

함영목 ,  이원규 ,  김수환 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

메모리 사용을 감소시킨 Deep Packet Inspection을 위한 비트 분리 스트링 매칭 엔진

홍혜정 ,  안성용 ,  김현진 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2009 .05

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

스트링 B-트리의 효율적인 구현

윤주영 ,  박근수

한국정보과학회 학술발표논문집

2006 .06

Simulation and Edge Profiles of Chemically Amplified Resists with Highly Contrast in the Deep Submicron Range by using the Electron Beam lithography

Young Mog Ham ,  Chang Buhm Lee ,  Soo Hwan Kim 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01