High Precision Dose Correction for Proximity Correction in Electron Beam lithography on a Sub O.2mm Device

양현조 ,  최용규 ,  허훈 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

X-ray Lithography Technology

황기웅

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Resolution Enhancement Through a Rule-Free Optical Proximity Correction in Optical Lithography

오용호 ,  이재철 ,  임성우 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

X-Ray Lithography With High Power Laser

Hong Jin Kong

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

전자빔 리소그래피에서의 근접효과 보정을 이용한 패턴 제작에 관한 연구

오세규 ,  김동환 ,  김승재

반도체및디스플레이장비학회지

2009 .01

전자빔 리소그래피에서의 근접효과 보정

오세규 ,  김승재 ,  정광오 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2009 .05

Laser Produced Soft X-ray Source For X-ray Lithography

김병태

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

X-Ray Lithography : Recent Progress and Future Developments

Katsumi Suzuki

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

X - Ray Lithography Overview and System Design Consideration

유형준

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Proximity Effect Correction by Pattern Modified Stencil Mask in Large Field Projection Electron-Beam Lithography

Hideo Kobinata ,  Hi ,  oshi Yamashita 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

A New Approach of E-Beam Proximity Effect Correction for High-Resolution Applications

Michal Simecek ,  Anja Rosenbusch ,  Tsuneaki Ohta 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Synchrotron X-ray Lithography

윤창주

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

ADVANCED LITHOGRAPHY

Tsuneo Te ,  asawa

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

X-선 리소그라피 기술 ( X-ray Lithography Technology )

최영규 ,  양전욱 ,  이재신 외 3명

한국통신학회 학술대회논문집

1988 .01

X-선 리소그라피 기술 ( X-ray Lithography Technology )

최영규 ,  양전욱 ,  이재신 외 3명

특정연구 결과 발표회 논문집

1988 .01

전자-빔 Lithography 근접효과에 대한 노출강도 분포의 최적화법 ( Optimization of EID Function for Proximity Effect in Electron Beam Lithography )

손상희 ,  곽계달

전자공학회지

1985 .09

Lithography 기술과 Trend에 대한 고찰

조한구

전자공학회지

2001 .08

High-Speed Convolution System for Real-Time Proximity Effect Correction

Susumu Oogi ,  Takiji Ishimu ,  a 외 13명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong ,  Dave Ma ,  kle

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Micro-manufacturing and Characterization of Copper X-ray Compound Refractive Lens via Deep X-ray Lithography and Electroforming Processes

Bong-Kee Lee ,  Jong Hyun Kim ,  Geunbae Lim

대한기계학회 춘추학술대회

2013 .05