Sub-Half Micron Optical Lithography with dry Development

백기호

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Low Temperature Etching of Resist for Sub-Half Micron Patterning

박찬동 ,  김준모 ,  김진웅 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

Quarter-Micron Lithography 개발 현황 및 향후 Advanced Lithography 기술 전개 방향

허훈

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Optimization of MLR ( Multi Layer Resist ) Process for 100nm Negative Tone Pattening Using Electron Beam Lithography

Dong Hyoun Kim ,  Young Mog Ham ,  Yong Jae Lee 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Wafer auto-Focus System for Sub-quarter Micron Lithography Tools

김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

MLRS 발사관 소재 및 구조특성 연구

채경민 ,  손현일 ,  서혁 외 1명

한국추진공학회 학술대회논문집

2005 .11

Image Reversal 공정을 이용한 Sub-Micron 게이트의 제작 ( The Fabrication of a Sub-Micron Gate Using IR Processes )

이일형 ,  김상명 ,  윤관기 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

Fabrication of Sub-Half Micron PMOS Device

Yeo Hwan Kim ,  Sang Jik Jwon ,  KuK Jin Chun 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1992 .01

Sub 2-Micron CMOS 개발

최민성

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

MLR 모형을 이용한 홍수피해 유형에 따른 홍수 위험 지수

김묘정 ,  김광섭

대한토목학회 학술대회

2017 .10

ADVANCED LITHOGRAPHY

Tsuneo Te ,  asawa

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

IC-Lithography 공정의 자동화

한국전자산업진흥회

전자진흥

1984 .01

Newly Designed Resists Based on Acrylated Structure for 193 nm Lithography

김영대 ,  박상진 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Novel Model and Protection Technique for Charged Device Model in Half-Micron CMOS Process

Eun Kyoung Kwon ,  H. R. Pa ,  k 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Fabrication of inorganic long micron/sub-micron tubes using fibrous polymers as templates

김영백 ,  정은선

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .04

Lithography 기술과 Trend에 대한 고찰

조한구

전자공학회지

2001 .08

Sub-Half Micron Contact 식각에서 Post Etch Treatment 연구

박병준 ,  김진웅 ,  김상욱 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Resist Development Process for Sub-0.15 mm Lithography by KrF Imaging

K. Matsunaga ,  D. Kawamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong ,  Dave Ma ,  kle

대한전자공학회 워크샵

1991 .01