실리콘窒化膜의 氣相成長과 그 電氣的 特性

成英權 ,  閔南基 ,  金承培

전기의세계

1979 .09

공간 분할 PE-ALD에서 증착된 저온 실리콘 질화물 박막의 Plasma Treatment 특성 연구

이백주 ,  황재순 ,  서동원 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2020 .08

Rapid Thermal Annealing System의 시험 제작 ( Experimental Results of a Prototype Rapid Thermal Annealing System )

조병진 ,  김경태 ,  김충기

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

Hydrogen and Alkali Ion Sensing Properties of Ion Implanted Silicon Nitride Thin Film

박구범

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2008 .01

SiH₄-N₂ 혼합가스를 사용한 플라즈마 CVD 실리콘질화막의 堆積과 電氣的 特性

成英権 ,  申東烈 ,  朴贊元

전기학회논문지

1986 .08

PECVD로 제조된 비정질 질화탄소 박막의 물성에 미치는 열처리 효과

문형모 ,  김상섭

한국재료학회지

2003 .01

The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball

Dae Soon Lim ,  Jong Hoon Kim

Tribology and Lubricants

1995 .12

The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball

Dae-Soon Lim ,  Jong-Hoon Kim

Lubricants Symposium

1995 .10

포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구

문경일 ,  변상모 ,  조용기 외 2명

열처리공학회지

2005 .01

SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING

Osamu Takai ,  Yusuke Taki ,  Toshihisa Kitagawa

한국표면공학회지

1996 .10

Characterization of the Nitrided GaAs Thin Layers after Rapid Thermal Annealing by Using Raman Scattering

Eui Kwan Koh ,  Young Ju Pa ,  k 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

급속 열처리 장치를 이용한 실리콘 산화막의 Annealing 효과

박현우 ,  장현룡 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

급속 열처리 장치를 이용한 실리콘 산화막의 Annealing 효과 ( Effects of Annealing on Silicon Dioxide Using Rapid Thermal Process System )

박현우 ,  장현룡 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

MECHANISM OF ETCHING OF SILICON NITRIDE IN CF4-O2 PLASMA

V. P ,  emachand ,  an 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

COMPUTER SIMULATION OF RAPID THERMAL ANNEALING OF THE SILICON OXIDE IN AMMONIA AMBIENT

H. Wong ,  Y. C. Cheng ,  P. T. Lai

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

METAL-INDUCED LATERAL CRYSTALLIZATION OF AMORPHOUS SILICON FILMS ON GLASS USING RAPID THERMAL ANNEALING

Kim ,  Tae-Kyung ,  Lee 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Global Warming Gas Emission during Plasma Cleaning Process of Silicon Nitride Using c-C₄F₈O Feed Gas with Additive N₂

K. J. Kim ,  C. H. Oh ,  N.-E. Lee 외 4명

한국표면공학회지

2001 .10

Thin Film Encapsulation for Flexible Electronics using Silicon Nitride deposited by PECVD

김래호 ,  윤원민 ,  김유진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

The Corrosion and Electrical Properties of AISI 316L by Plasma Nitriding for PEMFC

Won Hyuk Hong ,  Dong Hoon Han ,  Jung Joong Lee

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Properties of Co-silicide prepared by rapid thermal annealing

엄우용 ,  장호정 ,  장지근 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01