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이용수
Abstract
1. INTRODUCTION
2. EXPERIMEMT
3. RESULTS AND DISCUSSION
4. SUMMARY
ACKNOWLEDGMENT
REFERENCES
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2016 .01
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2003 .01
SiH₄-N₂ 혼합가스를 사용한 플라즈마 CVD 실리콘질화막의 堆積과 電氣的 特性
전기학회논문지
1986 .08
Effect of Diluent Gas and Rapid Thermal Annealing on the Properties of Plasma Deposited Silicon Nitride Film
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1991 .01
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2005 .01
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2002 .01
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ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
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2007 .04
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2007 .01
The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball
Tribology and Lubricants
1995 .12
The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball
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1995 .10
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2019 .05
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2010 .05
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