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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Yong-Jin Seo (Sehan University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.24 No.3
발행연도
2024.6
수록면
249 - 258 (10page)
DOI
10.5573/JSTS.2024.24.3.249

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The double diffused drain N-type MOS (DDDNMOS) transistor with a dipolar source is proposed to realize stable and robust electrostatic discharge (ESD) protection performance. The proposed dipolar source is a structure in which a P<SUP>+</SUP> diffusion layer is intentionally inserted on the side of the N<SUP>+</SUP> source to prevent lateral diffusion of the electron-rich region from the N+ source. According to the 2D simulation and measured TLP results, it was found that the inserted P<SUP>+</SUP> diffusion layer effectively prevented the formation of deep electron channels caused by electron injection. Therefore, the double snapback phenomenon, which is a problem in the conventional DDDNMOS standard device, can be solved.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. DETERMINATION OF DESIGN PARAMETERS
III. DEVICE STRUCTURES AND ANALYSIS METHOD
IV. RESULTS AND DISCUSSION
V. CONCLUSIONS
REFERENCES

참고문헌 (17)

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