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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김경보 (Inha Technical College) 이종필 (Jungwon University) 김무진 (Kangnam University)
저널정보
한국조명·전기설비학회 조명·전기설비학회논문지 조명·전기설비학회논문지 제37권 제6호
발행연도
2023.12
수록면
19 - 27 (9page)
DOI
10.5207/JIEIE.2023.37.6.019

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In this study, we fabricated small-hole (SH: 0.5㎜ diameter) and very large-hole (3㎜ diameter) masks to etch perovskite semiconductor materials composed of organic and inorganic components into a concave shape. To ensure that the mask remained fixed on the sample during etching, magnets were placed on the back of the glass during the experiment. Subsequently, argon and hydrogen were supplied to the high-pressure plasma equipment to generate hydrogen plasma, and the shape of the perovskite semiconductor material was examined by varying the etching time from 1 s to 20min. The etched pattern showed various morphological changes over time, from the center of the mask toward the edges. In the sample where the etching process was performed for 20min, the semiconductor material remaining in the central area consisted of carbon and lead. For complete removal, the etching time should be longer than 20min or additional gas that can remove lead should be supplied to hydrogen-based atmospheric pressure plasma.

목차

Abstract
1. 서론
2. 결과 및 고찰
3. 결론
References

참고문헌 (12)

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