지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2023.10
- 수록면
- 1,200 - 1,207 (8page)
- DOI
- 10.5370/KIEE.2023.72.10.1200
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (3)
2023
- 이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
- 연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
- 이 논문의 연구 히스토리 확인하기
초록· 키워드
오류제보하기
In this study, simulations based on fluid plasma approximation were conducted to optimize the etching process by understanding the plasma characteristics of Ar/CF4 mixtures and the changes in characteristics when O2 is added, considering real processes. To enhance the ionization efficiency of CF4 gas primarily used in the etching process, Ar was mixed. We analyzed the radical density, which determines plasma characteristics and etching kinetics, according to the Ar/CF4 mixing ratio. Additionally, to account for the actual process, O2 gas was added, and we analyzed the characteristics and changes in plasma properties according to the O2 gas ratio. It was confirmed that Ar had the greatest influence on electron density, followed by CF4. The F radical density, used for chemical etching, increases with the ratio of CF4, while the presence of O2 leads to a decrease in C radicals.
목차
Abstract
1. 서론
2. Simulation Model
3. Simulation Result
4. Conclusion
References
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
아르곤과 혼합된 사불산화탄소 가스의 플라즈마 분해에 관한 공간 평균 시뮬레이션
조명·전기설비학회논문지
2018 .12
-
Ar/CF₄ 혼합가스를 이용한 유도결합 플라즈마 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2022 .07
-
유체시뮬레이션을 통한 Ar/CF₄ 자화유도결합 플라즈마의 특성 연구
전기학회논문지
2015 .04
-
Study of Surface Reaction and Gas Phase Chemistries in High Density C4F8/O2/Ar and C4F8/O2/Ar/CH2F2 Plasma for Contact Hole Etching
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2015 .01
-
Chemical Reaction on Etched TaNO Thin Film as O2 Content Varies in CF4/Ar Gas Mixing Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2017 .04
-
중성 종의 열 유동 해석 및 플라스마 유체 시뮬레이션을 이용한 유도 결합 Ar/H2 플라스마의 특성 분석
전기학회논문지
2022 .02
-
고열전도 CF/Al 복합재료의 개발을 위한 일방향 CF 프리폼의 제조
대한기계학회 춘추학술대회
2016 .04
-
CF₄, CH₄, Ar 혼합기체의 전자 평균에너지
전기학회논문지 P
2015 .12
-
Chlorine-based high density plasma etching of α-Ga2O3 epitaxy layer
Electronic Materials Letters
2021 .01
-
유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar/CH₄ 플라즈마의 특성 분석
전기학회논문지
2016 .08
-
유기 킬레이터 물질의 고밀도 플라즈마를 이용한 구리 박막의 나노미터 스케일 식각
전기전자재료학회논문지
2021 .01
-
Inductively coupled plasma etching of high-k dielectric HfSiO4 film
Journal of Ceramic Processing Research
2018 .02
-
CF₄ 제거를 위한 유동층 반응기를 이용한 열 플라즈마-촉매 스크러버 특성 연구
대한기계학회 논문집 B권
2022 .01
-
The Effects of CF4 Partial Pressure on the Hydrophobic Thin Film Formation on Carbon Steel by Surface Treatment and Coating Method with Linear Microwave Ar/CH₄/CF₄ Plasma
Journal of Electrical Engineering & Technology
2017 .09
-
CF₄ Plasma Treatment를 이용한 고전압 GaN 쇼트키 배리어 다이오드의 개발
대한전자공학회 학술대회
2016 .11
-
시뮬레이션에 의한 CF₄, CH₄, Ar 混合氣體의 平均에너지
대한전기학회 학술대회 논문집
2015 .10
-
CFS 전자서명 시스템의 상수 시간 구현
한국통신학회 학술대회논문집
2019 .06
-
정전 탐침법과 유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar 플라즈마의 특성 연구
전기학회논문지
2016 .07
-
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
-
손상해석을 이용한 CF8A 열화재의 파괴저항성 예측 기법
대한기계학회 춘추학술대회
2016 .04
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
최근 본 자료
댓글(0)
0