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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2023.9
- 수록면
- 327 - 332 (6page)
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전통적인 실리콘 기반 반도체 소자 보다 높은 성능과 다양한 활용성으로 차세대 반도체 후보로 높은 관심 받고 있는 CNTFET은 CNT 배치와 같은 CNTFET만의 고유한 공정 편차가 아직 성숙되지 않아 상용화에 어려움을 겪고 있다. 이러한 어려움을 극복하고자 반복적인 회로 구성으로 공정 편차의 영향을 적게 받는 회로를 MOSFET-CNTFET 기반 하이브리드 회로로 구현하여 CNTFET의 장점을 취하고 단점을 보완하고자 하는 수많은 연구들이 지속적으로 수행되어 왔다. 본 논문에서는 하이브리드 SRAM의 성능이 기존의 MOSFET SRAM 또는 CNTFET SRAM에 존재하는 반도체 공정 변화에 의해 얼마나 변화될 수 있는지를 비교하였다. 시뮬레이션 결과, CNT 밀도를 32nm 당 7개에서 9개 사이로 유지할 수 있다면, hybrid SRAM은 기존 MOSFET SRAM보다 읽기 동작에서 그리고 쓰기 동작에서 공정 편차에 대한 강건성이 각각 약 2.6배 그리고 약 1.1배 있음을 보여준다.
목차
Abstract
요약
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결론
References
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