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저자정보
Danial Keighobadi (Semnan University) Saeed Mohammadian Semnani (University of Semnan) Mohaddeseh Mohtaram (Semnan University)
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제22권 제4호
발행연도
2021.8
수록면
502 - 508 (7page)
DOI
https://doi.org/10.1007/s42341-020-00257-1

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A novel core-source gate-all-around TFET based on InGaAs/InP heterojunction is presented in this paper. In the proposed device, the main current flow mechanism is line tunneling which occurs across a heterojunction composed of a narrowbandgap material of source and a wide-bandgap material of channel. The off-state current and ambipolar conduction are diminished by simultaneously employing two different doping concentrations in the channel region, as well as a wide-bandgap material in drain region. We study the switching performance of the device using a calibrated numerical device simulator. The results indicate impressive performance of the proposed transistor, including an extremely steep subthreshold swing, sub 3mv/dec over 5 decades and sub 60mv/dec over 9 decades of drain current, and average subthreshold swing of about 27mv/dec, and an on-state to off-state current ratio of about 10 11 at V GS = 0.3 V. The impact of variations in the device dimensions, doping and bias condition on its electrical characteristics is also studied and discussed physically.

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