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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
정영석 (광운대학교 전자재료공학과) 구상모 (광운대학교)
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제30권 제6호
발행연도
2017.6
수록면
345 - 348 (4page)
DOI
https://doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.6.345

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본 연구에서는 p-pillar 영역의 두께와 농도에 따른 4H-SiC 기반 균일 초접합 Accumulation MOSFET 소자 구조의 최적화를 진행했다. Sj-ACCUFET 구조는 이차원 시뮬레이터를 사용하여 설계하였다. p-pillar 영역의 도핑 농도는 1×1015 cm-3 ∼ 5×1016 cm-3, 두께는 0 μm ∼ 9 μm 로 변화를 주었으며, 항복전압, 온저항 그리고 발리가 성능지수를 이용하여 SJ-ACCUFET의 동작 특성을 평가했다. p-pillar 영역의 도핑 농도와 두께는 항복전압, 온저항 그리고 문턱 전압에 영향 끼침을 확인 할 수 있다. 따라서, p-pillar 영역의 농도와 두께 변화를 통해 높은 발리가 성능지수를 가진 SJ-ACCUFET을 설계하였다.

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