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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2023.3
- 수록면
- 402 - 405 (4page)
- DOI
- 10.5370/KIEE.2023.72.3.402
이용수
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Gate bias stress can change the threshold voltage of amorphous indium gallium zinc oxide (a-IGZO) thin-film transistor (TFT). Especially, short-term degradation of threshold voltage should be compensated since it causes motion artifacts in the display. Therefore, a new short-term degradation model was proposed based on the stretched-exponential model. Moreover, the accuracy of the proposed model was confirmed by calculating the coefficient of determination between the measured data and the fitted data.
목차
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
References
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