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Recently, transmittance of photomasks for ultra-violet (UV) region is getting more important, as the light source wavelength of an exposure process is shortened due to the demand for technologies about high integration and miniaturization of devices. Meanwhile, such problems can occur as damages or the reduction of yield of photomask as electrostatic damage (ESD) occurs in the weak parts due to the accumulation of static electricity and the electric charge on chromium metal layers which are light shielding layers, caused by the repeated contacts and the peeling off between the photomask and the substrate during the exposure process. Accordingly, there have been studies to improve transmittance and antistatic performance through various functional coatings on the photomask surface. In the present study, we manufactured antireflection films of Nb₂O<SUB>5</SUB>,│SiO₂ structure and antistatic films of ITO designed on 100 × 100 × 3 ㎜t sodalime glass by DC magnetron sputtering system so that photomask can maintain high transmittance at I-line (365 nm). ITO thin film deposited using In/Sn (10 wt.%) on sodalime glass was optimized to be 10 nm-thick, 3.0 × 103 Ω/□ sheet resistance, and about 80% transmittance, which was relatively low transmittance because of the absorption properties of ITO thin film. High average transmittance of 91.45% was obtained from a double side antireflection and antistatic thin films structure of Nb₂O<SUB>5</SUB> 64 nm│SiO₂ 41 nm│ sodalime glass│ITO 10 nm│Nb₂O<SUB>5</SUB> 64 nm │SiO₂ 41 nm.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (20)
참고문헌 신청
B. Lin, S. P. Li, Z. C. Cao, Y. Zhang, X. M. Jiang, Theoretical modeling and experimental analysis of single-grain scratching mechanism of fused quartz glas, J. Mat. Pro. Tech., 293 (2021) 117090.
B. A. Moys, The theory of double-layer antireflection coatings, Thin Solid Films, 21 (1974) 145-157.
C. Martinet, V. Paillard, A. Gagnaire, J. Joseph, Deposition of SiO2 and TiO2 thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition for antireflection coating, J. Non-Cryst. Sol., 216 (1997) 77-82.
J. Zhao, M. A. Green, Optimized antireflection coatings for high-efficiency silicon solar cells, IEEE Trans. Electron Dev., 38 (1991) 1925-1934.
H. Y. Hsueh, H. Y. Chen, M. S. She, C. K. Chen, R. M. Ho, S. Gwo, H. Hasegawa, E. L. Thomas, Inorganic gyroid with exceptionally low refractive index form block Co-polymer templating, Nano Lett., 10 (2010) 4994-5000.
B. A. Moys, The theory of double-layer antireflection coatings, Thin Solid Films, 21 (1974) 145-157.
C. Martinet, V. Paillard, A. Gagnaire, J. Joseph, Deposition of SiO2 and TiO2 thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition for antireflection coating, J. Non-Cryst. Sol., 216 (1997) 77-82.
J. Zhao, M. A. Green, Optimized antireflection coatings for high-efficiency silicon solar cells, IEEE Trans. Electron Dev., 38 (1991) 1925-1934.
H. Y. Hsueh, H. Y. Chen, M. S. She, C. K. Chen, R. M. Ho, S. Gwo, H. Hasegawa, E. L. Thomas, Inorganic gyroid with exceptionally low refractive index form block Co-polymer templating, Nano Lett., 10 (2010) 4994-5000.
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