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곽동열 (서울과학기술대학교) 조승범 (서울과학기술대학교) 강동찬 (서울과학기술대학교) 김용성 (서울과학기술대학교) 박태성 (서울과학기술대학교) 박익근 (서울과학기술대학교)
저널정보
한국비파괴검사학회 비파괴검사학회지 비파괴검사학회지 제38권 제5호
발행연도
2018.10
수록면
335 - 342 (8page)
DOI
10.7779/JKSNT.2018.38.5.335

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박막 증착 공정에서는 기판 온도, 압력, 전압뿐만 아니라 스퍼터링 공정에서 발생된 산소의 검출량과 같은 미소량의 변수가 박막의 특성에 영향을 미칠 수 있다. 본 연구에서는 고진공의 직류 마그네트론 스퍼터링 공정으로 제작된 박막에서 산소의 존재 여부를 확인하기 위해 유리 기판 위에 110 nm의 두께로 은박막을 증착하였다. 스퍼터링 공정에서 DC 출력 제어 및 아르곤 분압 조절 조건과 DC 출력 조절 및 아르곤분압 제어 조건을 다르게 하여 박막을 제작하였고 X선 회절분석법과 레이저 유도 플라즈마 분광분석법을 적용하여 산소의 검출 여부를 확인하였다. 스퍼터링 공정에서 발생된 산소 음이온의 영향으로 은 박막의 표면과 깊이 방향으로 산소가 분포되었고 스퍼터링 조건에 따라 산소의 양이 다르게 검출됨을 확인하였다.

목차

초록
Abstract
1. 서론
2. 실험 장치 및 방법
3. 실험결과
5. 결론
References

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