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Nanocrystalline vanadium nitride (VN) coatings were deposited using asymmetric bipolar pulsed dc sputtering to further understand the influence of the pulsed plasmas on the crystal structure, microstructure and mechanical properties. Properties of VN coatings were investigated with FE-SEM, XRD and nanoindentation. The results show that, with the increasing pulse frequency and decreasing duty cycle, the coating morphology changed from a porous columnar to a dense structure, with finer grains. Asymmetric bipolar pulsed dc sputtered VN coatings showed higher hardness, elastic modulus and residual compressive stress than dc sputtered VN coatings. The results suggest that asymmetric bipolar pulsed dc sputtering technique is very beneficial for the reactive sputtering deposition of VN coatings.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (27)
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[학술지(정기간행물)] - 전성용 / 2013 / DC 스퍼터법과 유도결합 플라즈마 마그네트론 스퍼터법으로 증착된 수퍼하드 TiN 코팅막의 물성 비교연구 / 한국표면공학회지 46 (2) : 55 ~ 60
[학술지(정기간행물)] - M. Yang / 2016 / Epitaxial growth of high quality AlN films on Si substrates / Mater. Lett 182 : 277 ~ 280
[학술지(정기간행물)] - M. T. Hosseinnejad / 2011 / Deposition of tungsten nitride thin films by plasma focus device at different axial and angular positions / App. Surf. Sci 257 : 7653 ~ 7658
[학술지(정기간행물)] - R. Franz / 2013 / Vanadium containing selfadaptive low-friction hard coatings for hightemperature applications : A review / Surf. Coat. Tech 228 : 1 ~ 13
[학술지(정기간행물)] - Y. Wang / 2016 / Mechanical strengthening in self-lubricating CrAlN/VN multilayer coatings for improved high-temperature tribological characteristics / Surf. Coat. Tech 303 : 12 ~ 17
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