반도체 제조공정의 포토레지스트 정량 토출 펌프에 관한 연구

박형근

doi:10.5762/KAIS.2022.23.9.254

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자료유형: 학술저널

저자정보: 박형근 (남서울대학교)

저널정보: 한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제23권 제9호

발행연도: 2022.9

수록면: 254 - 259 (6page)

DOI: 10.5762/KAIS.2022.23.9.254

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본 논문에서는 반도체 제조공정의 포토공정에 사용되는 TRACK 설비에서 고가의 포토레지스트를 웨이퍼에 정량 및 정압으로 토출할 수 있는 펌프를 제안하였다. 포토레지스트의 기술적 요구사항은 대량생산의 특성상 단한번의 오류도 허용되지 않는 높은 수준의 신뢰성을 요구하고 있다. 또한, 반도체 제조라인에서는 원가절감을 위해 지속적인 노력을 기울여 현재 12인치 웨이퍼 코팅을 기준으로 0.8cc~1.5cc의 포토레지스트를 사용하고 있다. 포토레지스트 사용량이 줄어들면서 정량토출 및 Cut-off/suck-back 제어의 정밀도와 정확성 향상이 수율 향상을 위한 대책으로 필수적이다. 제안된 펌프는 초소형 다이아프램과 리니어 모터를 이용한 Cut-off/Suck-back valve 구동장치로 구성되며, 5ml 토출을 기준으로 기존 Millipore사 Intelligen RDS 펌프의 ±0.02ml 이내 대비 최소 ±0.008ml 이내에서 최대 ±0.018ml 이내의 정량 특성을 나타내어 각 구간 측정 오차가 ±0.02ml 범위내에 포함됨을 확인하였다.

#Photoresist #Photoresist Pump #Diaphragm #Semiconductor #Semiconductor Process

참고문헌 (8)

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Hyoung-Keun Park, “A Study on the High Viscosity Photosensitive Polyimide Degassing and Pumping System”, Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society , Vol.16, No.2, pp.1364-1369, Fab. 2015. DOI: https://doi.org/10.5762/KAIS.2015.16.2.1364

S. H. Park, H. K. Park, Development of Efficient MP-GVI Package Handler for WLCSP in Semiconductor Manufacturing Process, Ministry of SMEs and Startups Research report, Anysol Co. Ltd & Namseoul univ., Korea, pp.10-28, 2014.

Hyoung-Keun Park, “Development of Machine Vision Monitoring System for Semiconductor Package Sorter”, International Journal of Control and Automation , Vol.9, No.4, pp.63-72, April, 2016. DOI: https://dx.doi.org/10.14257/ijca.2016.9.4.07

https://m.blog.naver.com/PostView.naver?isHttpsRedirect=true&blogId=rspak&logNo=60213823898 https://iwakikorea.co.kr/en/catalogue/items/pds-series

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