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논문 기본 정보

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저자정보
정종국 (한국산업기술대학교) 안병하 (셀코스) 최선아 (셀코스) 박영웅 (셀코스) 임실묵 (한국산업기술대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021년도 한국표면공학회 추계학술대회
발행연도
2021.12
수록면
117 - 117 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

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반도체 핵심 부품소재인 포토마스크의 품질은 높은 빛 투과율이 좌우한다. 이에 반도체 제조 업계에서는 고집적화, 소형화 기술에 대한 요구에도 불구하고 기판소재의 수급 및 원가 경쟁력에 유리한 석영유리기판을 대신해 소다라임 유리기판을 적용하여 사용되어 왔으며, 최근의 디스플레이, MEMS 등 반도체 패키징 시장의 트랜드 변화로 고집적화에 따른 가장 범용적인 소다라임 유리 기판 포토마스크 투과도에 대한 성능 향상에 대한 요구가 이루어지고 있다. High-End급 반도체 제품의 경우 Photo-Lithography의 파장이 단파장 됨에 따라 유리 기판의 투과율 특성이 더욱 중요해지고 있으며, 석영 유리와 이를 활용한 포토마스크 제조기술은 모두를 수입에 의존, 수출규제에 매우 취약한 상태로 반도체 산업의 고도화, 가격 경쟁이 과열로 제조업체 사이에서는 저렴하면서도 및 투과 성능이 높은 포토마스크 수요가 급증하고 있고 이에 따른 기술 개발이 필요한 실정이다.
본 연구에서는 양산용 대면적 P ... 전체 초록 보기

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