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한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제16권 제1호
발행연도
2015.1
수록면
29 - 33 (5page)

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This paper presents the results of the optical characteristics of ITO thin film with different buffer layer thicknessesof SiO2 and Nb2O5 for touch sensor application. SiO2 and Nb2O5 buffer layers were deposited using RF magnetronsputtering equipment. The buffer layers were inserted between glass and ITO layers. In order to compare withthe experimental results, the Essential Macleod Program (EMP) was adopted. Based on EMP simulation, the[Nb2O5|SiO2|ITO] multi-layered thin film exhibited high transmittance of more than 85% in the visible region. Theactual experimental results also showed transmittance of more than 85% in the visible region, indicating that thesimulated results were well matched with the experimental results. The sheet resistance of ITO based film was about340 Ω/sq. The surface roughness maintained a relatively small value within the range of 0.1~0.4 nm when using theNb2O5 and SiO2 buffer layers.

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