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Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
L-FC를 이용한 플라즈마 공정 중 회수 및 재사용 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Measurement of characteristics of plasma discharge in liquid
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Plasma-induced reaction at plasma-liquid and plasma-polymeric film interface by AC-driven atmospheric pressure plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F8 Capacitively Coupled Plasma
Applied Science and Convergence Technology
2021 .11
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F8/ O₂ 가스의 특성 해석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Flexible Plasma Sheets
Applied Science and Convergence Technology
2018 .03
Plasma Properties Data Center Activities for Plasma Application in the National Fusion Research Institute
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Plasma Farming : Comprehensive Plasma Application to Agriculture
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Challenges and Solution on Large Scale of Atmospheric Pressure Plasma for Environmental Plasma Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Analysis of characteristics of discharge in liquid
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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