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학술저널
저자정보
연시모 (한국생산기술연구원 마이크로나노공정그룹) 박진호 (한국생산기술연구원 마이크로나노공정그룹) 이낙규 (한국생산기술연구원 마이크로나노공정그룹) 박석희 (한국생산기술연구원 마이크로나노공정그룹) 이혜진 (한국생산기술연구원 마이크로나노공정그룹)
저널정보
한국교통대학교 융복합기술연구소 융ㆍ복합기술연구소 논문집 융ㆍ복합기술연구소 논문집 제5권 제1호
발행연도
2015.1
수록면
13 - 17 (5page)

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In wafer level molding progress, the thermal releasing failure phenomenon is shown up as the important problem. This phenomenon can cause the problem including the warpage, crack of the molded wafer. The thermal releasing failure is due to the insufficiency of adhesion strength degradation of the molding tape. To solve this problem, we studied experimental method increasing the release property of the molding tape through the plasma surface treatment on the wafer substrate. In this research, the vacuum plasma treatment system is used for release property improvement of the molding tape and controls the operating condition of the hydrophilic($O_2$, 100kW, 10min) and hydrophobic($C_2F_6$, 200kW, 10min). In order to perform the peeling test for measuring the releasing force precisely, we remodel the micro scale material property evaluation system developed by Korea institute of industrial technology. In case of hydrophilic surface treatment on the wafer substrate, we can figure out the releasing property of molding tape increase. In order to grasp the effect that it reaches to the release property increase when repeating the hydrophilic treatment, we make an experiment with twice treatment and get the result to increase about 12%. We find out the hydrophilic surface treatment method using plasma can improve releasing property of molding tape in the wafer level molding process.

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