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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2017.1
- 수록면
- 16 - 19 (4page)
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For the economical and environmental-friendly fabrication of polisher, Mo mask layer were sputtered on glass substrate instead of Cr mask material. Mo mask layers were sputtered by pulsed-DC sputtering and Photoresist patterns were formed on Mo mask layer for different develop times and optimized. After Mo mask layer were patterned and exposed glass was wet etched by HF solution for different etching times, the remaining Mo mask was stripped by using Al etchant. Develop time of 30 sec and HF wet etching time of 3 min were selected as optimized process condition and applied to the fabrication of polisher.
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LV Zogheib / 2011 / Effect of Hydrofluoric Acid Etching Duration on the Roughness and Flexural Strength of a Lithium Disilicate-Based Glass Ceramic / Brazilian Dental Journal 22(1):45~50
C Iliescu / 2005 / Characterization of masking layers for deep wet etching of glass in an improved HF/HCl solution / Surface & Coatings Technology 198(1-3):314~318
M Kolli / 2009 / HF etching effect on sandblasted soda-lime glass properties / Journal of the European Ceramic Society 29(13):2697~2704
CJ Jeong / 2015 / Method for manufacturing fingernail/toenail polishing beauty apparatus capable of achieving simultaneous cutting and polishing and fingernail/toenail polishing beauty apparatus manufactured by method therefor / KR Patent, 10-2015-0002132
C Iliescu / 2005 / Characterization of masking layers for deep wet etching of glass in an improved HF/HCl solution / Surface & Coatings Technology 198(1-3):314~318
M Kolli / 2009 / HF etching effect on sandblasted soda-lime glass properties / Journal of the European Ceramic Society 29(13):2697~2704
CJ Jeong / 2015 / Method for manufacturing fingernail/toenail polishing beauty apparatus capable of achieving simultaneous cutting and polishing and fingernail/toenail polishing beauty apparatus manufactured by method therefor / KR Patent, 10-2015-0002132
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