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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이사야 (단국대학교 전자전기공학부) 송윤석 ([주]엔씨디) 김현 ([주]엔씨디) 류상욱 (단국대학교 전자전기공학부)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제16권 제1호
발행연도
2017.1
수록면
1 - 5 (5page)

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2019

원자층 증착법으로 공정된 Al2O3/TiO2 다층 박막의 투습 및 광투과 특성에 대한 연구
이사야 전자전기공학과 2019.01 학위논문

2017

OLED의 Barrier와 Encapsulation을 위한 원자층 증착 기술로 공정된 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/TiO<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> 다층 필름
이사야 ,  송윤석 ,  김현 외 1명 반도체디스플레이기술학회지 2017.01 학술저널

초록· 키워드

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Encapsulation of organic based devices is essential issue due to easy deterioration of organic material by water vapor. Thin layer of encapsulation film is required to preserve transparency yet protecting materials in it. Atomic layer deposition(ALD) is a promising solution because of its low temperature deposition and quality of the deposited film. $Al_2O_3$ or $Al_2O_3/TiO_2/Al_2O_3$ multilayer film has shown excellent environmental protection characteristics despite of thin thicknesses of the films. $Al_2O_3/TiO_2/Al_2O_3$ multilayer and 1.5 dyad layer of $Al_2O_3/polymer/Al_2O_3$ deposited by ALD was measured to have water vapor transmittance rate(WVTR) well below the detection limit($5.0{\times}10^{-5}g/m^2day$) of MOCON Aquatran 2 equipment.
#Thin Film Coating #ALD #WVTR #TEM #Light Transmission

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