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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.5
- 수록면
- 757 - 757 (1page)
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As the demand for wearable electronics devices increases, flexible gas barrier films are becoming an important issue to prevent water and vapor from entering the device to increase the lifetime and stability of devices. Conventional gas barrier films are produced using vacuum based processes such as atomic layer deposition, chemical vapor deposition and sputtering. However, vacuum based processing has disadvantages of low production efficiency, high production cost and flexibility. To solve this problem, we manufactured a flexible gas barrier film using nano materials under non-vacuum system. A gas barrier film was deposited usin^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE10582344');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#
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