Si 기판 세정 조건에 따른 산화막의 특성 연구

전형탁 ,  강응렬 ,  조윤성

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

$UV/O_3$과 HF 세정이 금속불순물 제거와 gate 산화막 특성에 미치는 영향

이원준 ,  전형탁

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

HF-last Cleaning에서 SC-1 step과 $UV/O_3$ step이 gate 산화막에 미치는 영향

최형복 ,  류근걸 ,  정상돈 외 1명

한국재료학회지

1996 .01

Chemical HF Treatment for Rear Surface Passivation of Crystalline Silicon Solar Cells

최정호 ,  노시철 ,  정종대 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

Effect of cleaning process and surface morphology of silicon wafer for surface passivation enhancement of a-Si/c-Si heterojunction solar cells

송준용 ,  정대영 ,  김찬석 외 5명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2010 .06

The Study on the Cu Impurity Removal Depending on the Cleaning Splits of ( UV/O3 + HF ) and ( H2O2 + HF )

최백일 ,  이원준 ,  안태항 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

불산-오존-희석 암모니아수 세정에 의한 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자 제거

이건호 ,  배소익

화학공학

2007 .01

레이저 세정기술을 이용한 웨이퍼의 표면세정

이명화 ,  백지영 ,  송재동 외 2명

한국액체미립화학회지

2007 .01

건식세정에 의한 Si 표면의 금속불순물 제거에 관한 연구

박웅 ,  이종무 ,  안태항 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Hf 조성변화에 따른 Fe-Hf-N 자성박막의 특성

맹기호 ,  이진혁 ,  강계명 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

전리수를 이용한 반도체 세정 공정

류근걸 ,  김우혁 ,  이윤배 외 1명

한국반도체장비학회지

2003 .01

실리콘 기판 습식 세정에 따른 a-Si:H/c-Si 계면 및 이종접합 태양전지 특성 분석

송준용 ,  정대영 ,  김찬석 외 7명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2009 .06

Wafer Position Recognition in Wafer Cleaning Equipment

Joon Jae Lee

한국멀티미디어학회 국제학술대회

2009 .08

금속불순물 제거를 위한 UV/ozone과 HF 세정연구

이원준 ,  전형탁

한국재료학회지

1996 .01

전리수를 이용한 Si 웨이퍼 표면 변화 연구

김우혁 ,  류근걸

한국산학기술학회 논문지

2002 .06

AFM을 이용한 실리콘 웨이퍼 표면 연구

이성호 ,  김홍락 ,  서광 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

HF 전처리시 실리콘 기판의 초기접합 메카니즘에 관한 연구

강경두 ,  박진성 ,  이채봉 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .07

HfO₂/Hf/Si MOS 구조에서 나타나는 HfO₂박막의 물성 및 전기적 특성

배군호 ,  도승우 ,  이재성 외 1명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

리모트 수소 플라즈마를 이용한 Si 기판 위의 Cu 불순물 제거

이종무 ,  전형탁 ,  박명구 외 1명

한국재료학회지

1996 .01